谁能抢占先机，谁就能赢得主动。在全球技术竞争日趋激烈的科技赛道，我国泛半导体产业能否百尺竿头更进一步，光刻胶在其中扮演的作用——举足轻重。7月26日，在中国电子材料行业协会和中国光学光电子行业协会液晶分会联合主办的“2022年中国显示行业供应链技术和市场对接交流会”上，从成立伊始就努力夯实基础研究和技术创新工作的阜阳欣奕华材料科技有限公司（以下简称“欣奕华材料”），凭借其客户认可、已实现稳定量产的光刻胶系列产品技术，以及多年沉淀的研发实力，成功开发出了国内首创的“无Cd量子点光刻胶技术”，也因此囊获中国新型显示产业链重要奖项——“产业链创新突破奖”。

着力量子点显示解决方案 ，实现关键技术国产自主可控

量子点技术主要包括QD-film、QDCF和AMQLED三种技术，因其色彩还原更准确、色域覆盖更广泛，也被业内认为是目前最好的高色域解决方案之一。而量子点像素级别的色彩转换能力，则被认为在Mini/MicroLED和OLED显示技术领域大行其道的当下，有着非常巨大的应用价值和市场前景，属于产业链上游关键“卡脖子”技术。也正因此，与中国泛半导体产业休戚与共的欣奕华材料，深知量子点光刻胶技术作为实现量子点像素图案化应用的重要材料，对中国泛半导体产业破除发展掣肘的意义和重要性。

“量子点彩膜技术被认为是TFT-LCD 阵营一个新的技术高点，同时还可以兼容OLED技术实现显示升级。我们将现有光刻胶开发技术应用于量子点光刻胶的开发中，并在开发过程中针对实验现象做出了技术上的突破与创新。”谈到欣奕华材料自主开发的量子点光刻胶时，CEO黄常刚向行业专家及与会嘉宾娓娓道来。目前，欣奕华材料无Cd量子点光刻胶可实现高色域的面板显示效果（100% DCI-P3覆盖）：解析度小于等于5μm；独特的散射粒子添加工艺技术，提高了量子点光刻胶对蓝色背光（450 nm）的吸收率和色彩转换率；独特的配方比技术，保证了量子点在光刻胶体系内分散性和稳定性；可快速推进在Mini LED、全彩化Micro LED、大尺寸OLED等显示器件上的技术产业化导入进度；在实现关键技术国产替代加速的同时，再次助力行业高擎起了“自主可控”与“产业安全”的大旗。

光刻胶多点发力，以持续创新驱动产业升级

如果说无Cd量子点光刻胶只是欣奕华材料十年沉淀的技术缩影，那么欣奕华材料已在研发创新、品质管控、生产制造、系列产品布局等方面形成核心能力，成为多维一体能力型光刻胶供应商的企业，能做得远不止于此。欣奕华材料既是国家高新技术企业，又是安徽专精特新企业，已拥有光刻胶相关专利103项；拥有高阻抗、高分辨率、高色域、低温固化、量子点等全方位技术对应能力；产品批次稳定性高，负性光刻胶年出货量超两千吨，是当之无愧的国内光刻胶头部企业。

除负性光刻胶之外，欣奕华材料在国内首创了低温彩色光刻胶开发项目，可实现85℃的低温固化，技术能力接近国外先进水平，并已通过AR/VR产品客户端验证；其自主研发的热回流胶可广泛用于图像传感器以提高感应度，是图像传感器生产制程环节不可或缺的关键原材料；TFE Ink的无机/有机复合封装结构，兼具了无机封装材料水氧阻隔性好和有机封装材料成膜性好的优势，是OLED封装材料的主流选择，适用于窄边框以及全屏无边框的柔性OLED显示面板技术；高折射Ink可借助高折射膜回收利用陷于基底波导模式中的光，使OLED器件出光效率提高20%；欣奕华材料所研发的有机功能层材料PDL，目前更是全部依赖进口。随着全球产业链、供应链的断裂风险显著增加，从产业链安全性及成本降低等方面考虑，这一光刻胶产品的开发至关重要。

此外，黄常刚表示欣奕华材料还着力将半导体用光刻胶产品化。目前，I线和KrF、ArF光刻胶的开发已进入评测阶段，预计在2024年初可以实现少量出货，后续，为了加速半导体用光刻胶事业发展，欣奕华材料还将考虑导入KrF、ArF研发及生产时使用的曝光装置。

作为一家致力于泛半导体领域关键材料国产化配套，业务范围从面板用光刻胶、OLED材料的量产到半导体用的光刻胶等产品的开发推进，是国内为数不多，能实现稳定规模化供货的光刻胶生产企业，欣奕华材料已拥有光刻胶生产产线8条，产能4000吨/年；在目前产线基础上，产能可扩充到8000吨/年；拥有OLED升华产线，设计年产能2吨。

我们有理由相信，这样一家具备顶尖工艺技术能力，拥有领先的智慧工厂规划经验、最优的厂房设计及动力供给能力和一流生产设备供应商合作基础的企业，必将成为推动中国泛半导体产业链创新、促进产业链升级、提升产业链韧性、实现产业链高质量发展的肱骨之力！