近日，由电子化工新材料产业联盟主办的 “2024・光刻胶先进技术和产业应用研讨会” 在江苏省无锡市盛大开幕。本次会议以 “光刻未来・和合共生” 为主题，聚焦集成电路、新型显示等高性能光刻胶及相关原料技术，是国内光刻胶领域极具影响力的行业盛会。会议旨在促进国内高端光刻胶技术创新，加速核心技术突破与产业化应用，同时强化下游需求与科研、产业企业间的协同研发与技术交流。

会议期间，产学研各界专家齐聚一堂，围绕光刻胶技术和产业应用展开深入研讨。其中，阜阳彩名堂科技股份有限公司（简称“欣奕华材料”）作为国内光刻胶行业的头部企业受邀参会，公司中央研究院常务副院长李琳发表了题为《新型显示用彩色光刻胶可靠性测试》的专题报告。李琳在光刻胶领域拥有长达 16 年的丰富经验，在开发、检测等平台搭建和产业化方面均具有成功经验。会上，她向上下游合作伙伴分享了光刻胶可靠性测试的相关经验，并详细介绍了欣奕华材料针对不同新型显示技术所提供的光刻胶产品系列解决方案。

显示器件中用到了很多胶材来实现微纳图案的制作，由于其会受到工艺制程以及使用环境的影响，要求这些胶材具有较高的可靠性。TFT-LCD显示用的彩色光刻胶/黑色光刻胶要求具有耐热性、耐光性、耐化性以及耐高温高湿等性能。随着显示技术的发展，新型显示对光刻胶也提出了更多的要求，柔性 OLED 技术，彩色光刻胶需要具有低温固化、窄的光谱分布以及光稳定性等特性，助力 OLED 器件实现器件减薄与性能提升，有效降低功耗并增强显示效果。 Micro-OLED技术是将CMOS技术与OLED技术相结合，通过低温、高色域、高解析彩色光刻胶制成的滤光片，与白光 OLED 背光配合，实现微显示。微透镜光刻胶经过加热回流（Reflow)形成微透镜阵列（MLA），能显著提升OLED显示器亮度与出光均匀性。此外，在QD-OLED显示技术中，用于制作挡墙结构的bank材料，需要高解析以及低表面能，以阻挡相邻子像素的光泄露以及QD-ink的打印均匀性。

欣奕华材料凭借在光刻胶领域多年的深耕与持续加大的研发投入，培育了一支专业技术团队，可不断提升研发与技术创新能力，在推动国内光刻胶产业发展进程中发挥着重要作用。此次研讨会的召开，进一步彰显了我国光刻胶产业在集成电路和新型显示等领域的重要作用，欣奕华材料将以此为契机，更加坚定的致力于科技创新与产业创新的深度融合，携手产业链伙伴构建稳定、高效、安全的光刻胶生态，为行业合作伙伴提供全方位的优质服务与坚实支持，为国家重点科技领域发展注入“欣”动能。